[发明专利]静磁耦合高性能复合粘结钕铁硼磁体在审

专利信息
申请号: 202010052305.2 申请日: 2020-01-17
公开(公告)号: CN111261354A 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 柴晓峰;李东;毛建星;盛柳燕 申请(专利权)人: 杭州史宾纳科技有限公司
主分类号: H01F1/057 分类号: H01F1/057;H01F41/02
代理公司: 杭州九洲专利事务所有限公司 33101 代理人: 陈继亮
地址: 311307 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种静磁耦合高性能复合粘结钕铁硼磁体,矫顽力Hci在2k‑4kOe的粉末为10‑40重量份和矫顽力Hci在7k‑17kOe的粉末为60‑90重量份制备出的复合磁体,两种粉末矫顽力相差3k‑15kOe通过静磁耦合改善复合粘结磁体的性能。本发明的有益效果为:两种矫顽力高低悬殊的磁粉之间发生的磁性能相互作用的结果通配比形成静磁耦合,可以加入尼龙12增大静磁耦合效果,静磁耦合能大幅度改善复合粘结磁体的性能。
搜索关键词: 耦合 性能 复合 粘结 钕铁硼 磁体
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州史宾纳科技有限公司,未经杭州史宾纳科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010052305.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top