[发明专利]一种双极化低剖面微基站天线及阵列天线在审

专利信息
申请号: 202010028586.8 申请日: 2020-01-11
公开(公告)号: CN111129740A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 金定树;孙凯 申请(专利权)人: 上海安费诺永亿通讯电子有限公司
主分类号: H01Q1/36 分类号: H01Q1/36;H01Q1/50;H01Q15/14;H01Q21/00
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 胡晶
地址: 201108 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种双极化低剖面微基站天线及阵列天线,该基站天线,包括:辐射单元,包括第一辐射层、第二辐射层,第一辐射层馈电耦合至第二辐射层;第二辐射层上开有多个梯形缝;功率分配板,与第一辐射层相连;功率分配板包括第一馈电端口、第二馈电端口及第三馈电端口,第二馈电端口的电长度大于第一馈电端口、第三馈电端口中的任意一个馈电端口的电长度,且第二馈电端口为反相馈电端口;反射板,与功率分配板固连。该基站天线剖面低、结构简单、易于实现,批量生产时一次性互调良率高,有利于天线的批量生产一致性,且降低生产成本的同时,满足基站天线的行业标准。
搜索关键词: 一种 极化 剖面 基站 天线 阵列
【主权项】:
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