[发明专利]用于压印微米结构和/或纳米结构的装置和方法在审
| 申请号： | 201980101442.6 | 申请日： | 2019-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN114600043A | 公开（公告）日： | 2022-06-07 |
| 发明（设计）人： | J·可汗;W·佐尔巴赫 | 申请（专利权）人： | EV集团E·索尔纳有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 阮桢斐;司昆明 |
| 地址： | 奥地利圣*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于将结构压印到压印料中的装置(1)，所述装置具有用于将所述结构压印到所述压印料中的结构印模(4,4',4'',4''',4iv,4v,4vi,4vii,4viii)，其特征在于，在压印和与所述压印料分离期间，结构印模(4,4',4'',4''',4iv,4v,4vi,4vii,4viii)能够保持在恒定的局部应变下。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 压印 微米 结构 纳米 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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