[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法在审
申请号: | 201980087489.1 | 申请日: | 2019-12-17 |
公开(公告)号: | CN113228830A | 公开(公告)日: | 2021-08-06 |
发明(设计)人: | 舆水地盐;久保田绅治 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;H01L21/3065 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 任玉敏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 在示例性实施方式所涉及的等离子体处理装置中,脉冲状的负极性的直流电压被周期性地施加到下部电极。规定脉冲状的负极性的直流电压施加到下部电极的周期的频率低于为了生成等离子体而被供给的高频电力的频率。高频电力在周期内的第1部分期间内供给。周期内的第2部分期间的高频电力的功率电平被设定为从第1部分期间的高频电力的功率电平减少的功率电平。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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