[发明专利]用于校准扫描带电粒子显微镜的方法在审
| 申请号： | 201980087240.0 | 申请日： | 2019-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN113228222A | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | H·A·迪伦;W·T·特尔;W·L·范迈罗 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/21 | 分类号： | H01J37/21;H01J37/28 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 提供了一种用于校准诸如扫描电子显微镜(SEM)的扫描带电粒子显微镜的方法。该方法包括：将晶片划分为多个区域；在多个区域中的每个区域上制备包括与第二周期性结构交错的第一周期性结构的图案，第一周期性结构和第二周期性结构具有诱导偏移；确定第一周期性结构和第二周期性结构的实际节距，并且从而确定多个区域中的每个区域上的实际诱导偏移；从多个区域中选择多个区域；通过SEM测量多个区域中的每个区域上的第一周期性结构和第二周期性结构的节距；以及基于确定和测量来对SEM执行线性校准。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 校准 扫描 带电 粒子 显微镜 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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