[发明专利]测量图案化过程的参数的方法、量测设备、目标在审
| 申请号： | 201980084488.1 | 申请日： | 2019-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN113196175A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | S·索科洛夫;S·塔拉布莱恩;郑舒婷;A·E·A·科伦;M·F·A·欧林斯;K·R·A·M·施瑞尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及测量图案化过程的参数。在一个布置中，照射通过所述图案化过程形成的目标。从所述目标散射的辐射的子阶衍射分量被检测且用以确定所述图案化过程的参数。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 图案 过程 参数 方法 设备 目标 | ||
【主权项】：
暂无信息
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