[发明专利]纳米空隙的可调双折射在审
| 申请号： | 201980082380.9 | 申请日： | 2019-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN113168069A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 安德鲁·约翰·欧德柯克;巴里·大卫·西尔弗斯坦;克里斯托弗·元庭·廖;塔尼娅·马尔霍特拉;肯尼斯·迪斯特;格雷戈里·欧雷格维奇·安德烈耶夫;埃里克·施普顿 | 申请（专利权）人： | 脸谱科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35;G02B6/124 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张瑞;杨明钊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种形式双折射光学元件，包括结构化层和设置在该结构化层上的介电环境。结构化层和介电环境中的至少一个包括纳米空隙聚合物，该纳米空隙聚合物在未致动状态下具有第一折射率，并且在致动状态下具有不同于第一折射率的第二折射率。纳米空隙聚合物的致动可用于可逆地控制光学元件的形式双折射。还公开了各种其他装置、系统、材料和方法。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 空隙 可调 双折射 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于脸谱科技有限责任公司，未经脸谱科技有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980082380.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
