[发明专利]包含垂直晶体管的装置及相关方法在审
| 申请号： | 201980071020.9 | 申请日： | 2019-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN112930600A | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | K·M·考尔道;D·V·N·拉马斯瓦米;刘海涛 | 申请（专利权）人： | 美光科技公司 |
| 主分类号： | H01L29/732 | 分类号： | H01L29/732;H01L21/28;H01L21/768;H01L29/66 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 王艳娇 |
| 地址： | 美国爱*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种装置包括第一导电线及在所述第一导电线上方的垂直晶体管。所述垂直晶体管包括：栅极电极；栅极电介质材料，其上覆于所述栅极电极的侧；及沟道区域，其在所述栅极电介质材料的侧上，所述栅极电介质材料定位于所述沟道区域与所述栅极电极之间。所述装置进一步包括上覆于所述至少一个垂直晶体管的导电触点的第二导电线。还揭示相关装置及形成所述装置的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 垂直 晶体管 装置 相关 方法 | ||
【主权项】：
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