[发明专利]用于基于镶嵌周期性层的光场显示的光学方法及系统在审
申请号: | 201980068043.4 | 申请日: | 2019-08-22 |
公开(公告)号: | CN112868227A | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 朱卡-塔帕尼·马基宁;凯·奥亚拉 | 申请(专利权)人: | PCMS控股公司 |
主分类号: | H04N13/322 | 分类号: | H04N13/322;H04N13/39;G02B30/28;H04N13/32;H04N13/366;G02B30/31;G02B30/29 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马爽;臧建明 |
地址: | 美国特拉华*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 描述了用于提供诸如光场显示器的3D显示器的系统和方法。在一些实施例中,显示设备包括发光层,该发光层包括多个可单独控制的像素。光学层覆盖发光层。光学层包括以二维阵列(例如,棋盘形布置)布置的多个镶嵌单元。每个镶嵌单元包括多个光学瓦片。不同的瓦片在屈光度、倾斜方向、半透明度或其他光学特性上可以彼此不同。空间光调制器提供对哪些光学瓦片透射来自发光层的光至显示设备外部的控制。以同步的方式控制发光层和空间光调制器以显示期望的光图案。 | ||
搜索关键词: | 用于 基于 镶嵌 周期性 显示 光学 方法 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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