[发明专利]测量光瞳形状的方法和设备在审
| 申请号： | 201980063158.4 | 申请日： | 2019-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN112771449A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 弗瑞尔克·亚里安·斯多费尔斯;A·哈特格尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于确定在光学系统的物平面处的辐射的角强度分布的至少一部分的方法，所述角强度分布可以被称为物体水平光瞳形状。所述方法包括：将所述辐射引导到所述物平面中的衍射光栅上以便产生由所述光学系统至少部分地接收的至少一个非零阶衍射束；在传感器平面中形成所述光学系统的光瞳平面的图像并且确定在所述传感器平面中的辐射的空间强度分布；以及根据所确定的在所述传感器平面中的辐射的空间强度分布来确定在所述物平面处的辐射的角强度分布的至少一部分。所述方法是有利的，因为它允许根据在像平面水平处的测量来重构在光学系统的物平面处的辐射的角强度分布，即使在所述光学系统内存在光瞳平面的遮蔽物的情况下也是如此。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 形状 方法 设备 | ||
【主权项】：
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