[发明专利]形成光栅构件的方法有效
| 申请号： | 201980044880.3 | 申请日： | 2019-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN112400132B | 公开（公告）日： | 2022-12-20 |
| 发明（设计）人： | 摩根·艾文斯;鲁格·迈尔提摩曼提森;约瑟·欧尔森;彼得·F·库鲁尼西 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备公司 |
| 主分类号： | G02B27/44 | 分类号： | G02B27/44;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨文娟;臧建明 |
| 地址： | 美国麻萨诸塞州格洛斯特郡*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了光栅构件及形成方法。在一些实施例中，一种方法包括提供透光衬底以及在所述衬底上形成光栅层。所述方法包括在所述光栅层中形成光栅，其中所述光栅包括多个成角构件，所述多个成角构件相对于所述衬底的平面的垂直线以非零倾斜角设置。所述光栅的第一侧壁可具有第一角度，且所述光栅的第二侧壁具有不同于所述第一角度的第二角度。改变包括选择性及束角度扩展在内的工艺参数具有改变所述多个成角构件的形状或尺寸的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 光栅 构件 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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