[发明专利]用于生产针对防辐射优化的电路的方法有效
申请号: | 201980041187.0 | 申请日: | 2019-06-17 |
公开(公告)号: | CN112313520B | 公开(公告)日: | 2023-09-19 |
发明(设计)人: | C·奥蒂;T·波特博夫 | 申请(专利权)人: | 赛峰电子与防务公司 |
主分类号: | G01R31/3181 | 分类号: | G01R31/3181;G01R31/28;G01R31/3185;G06F30/34;G06F30/337;G06F119/10 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 亓云;陈斌 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于生产针对防辐射来优化的电路的生产方法,该方法包括在参考电路上执行的初步表征阶段,该初步表征阶段包括以下步骤:·多次辐照参考电路;·每次辐照后,如果参考电路的一个或多个参考元件(5)已经失效,则定位所述(诸)参考元件;以及·在参考电路的参考表面上映射辐照的影响;·该生产方法进一步包括优化阶段,该优化阶段包括根据在参考电路上执行的映射来适配至少一个经优化辐射敏感元件在经优化电路的至少一个经优化表面上的位置。 | ||
搜索关键词: | 用于 生产 针对 防辐射 优化 电路 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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