[发明专利]用于扫描曝光装置的控制方法有效
| 申请号： | 201980023117.2 | 申请日： | 2019-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN111936934B | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | V·阿尔蒂尼;F·斯塔尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种用于控制扫描曝光装置的方法，该扫描曝光装置被配置用于扫描衬底上的照射轮廓以在衬底上形成功能区域。该方法包括：在扫描曝光操作中，确定用于在包括功能区域的曝光场的曝光期间动态控制照射轮廓的控制轮廓；以及优化个体功能区域的曝光质量。该优化可以包括：a)在扫描方向上将控制轮廓扩展到曝光场的范围之外；和/或b)对控制轮廓应用去卷积方案，其中去卷积方案的结构基于照射轮廓在扫描方向上的尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 扫描 曝光 装置 控制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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