[发明专利]用于扫描曝光装置的控制方法

权利要求书

1.一种用于控制扫描曝光装置的方法，所述扫描曝光装置被配置用于扫描衬底上的照射轮廓以在所述衬底上形成功能区域，所述方法包括：

获取用于在包括所述功能区域的曝光场的曝光期间动态控制所述照射轮廓的控制轮廓；以及

通过以下方式配置所述控制轮廓以提高被包括在所述曝光场内的一个或多个个体功能区域的曝光质量：a)通过附加取决于所述功能区域的尺寸的扩展轮廓，在扫描方向上将所述控制轮廓扩展到所述曝光场的范围之外，和/或b)对所述控制轮廓应用去卷积方案，其中所述去卷积方案的结构基于所述照射轮廓在所述扫描方向上的尺寸。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述控制轮廓针对致动扫描曝光操作的一个或多个致动器定义随时间推移的设定点。

3.根据权利要求2所述的方法，其中将所述控制轮廓扩展的步骤包括：针对所述致动器，确定针对在与所述曝光场的曝光相对应的曝光时间段之前和/或之后的时间的设定点。

4.根据权利要求1所述的方法，其中配置所述控制轮廓通过应用所述去卷积方案而实现，并且所述方法还包括：根据被去卷积的控制轮廓而执行一个或多个后续曝光操作。

5.根据权利要求1所述的方法，其中每个功能区域包括一图案，所述图案在所述场上重复并且与所曝光的衬底上的个体管芯相对应，并且所述控制轮廓通过附加如下的扩展轮廓而被扩展：至少一个扫入扩展轮廓，所述至少一个扫入扩展轮廓在与所述曝光场的曝光相对应的曝光时间段之前并且与被扩展的扫入区域相对应；以及至少一个扫出扩展轮廓，所述至少一个扫出扩展轮廓在所述曝光时间段之后并且与被扩展的扫出区域相对应。

6.根据权利要求5所述的方法，包括以下步骤：确定与每个功能区域有关的平均校正轮廓，并且将所述扫入扩展轮廓和所述扫出扩展轮廓定义为所述平均校正轮廓。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述平均校正轮廓基于所述控制轮廓的管芯内分量而被确定。

8.根据权利要求7所述的方法，包括：将所述控制轮廓分解为所述管芯内分量、基础场内分量和场间分量。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述控制轮廓用于控制以下项中的一项或多项：曝光剂量、焦点、套刻和调平。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述控制轮廓包括被卷积的控制轮廓，所述被卷积的控制轮廓与如由曝光狭缝限定的所述照射轮廓相卷积，并且所述去卷积方案对所述被卷积的控制轮廓进行去卷积以使由所述卷积产生的误差最小化。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述去卷积方案包括确定Weiner去卷积滤波器，所述Weiner去卷积滤波器在存在噪声的情况下对被卷积的控制轮廓和照射轮廓进行去卷积。

12.根据权利要求11所述的方法，包括：选择用于所述Weiner去卷积滤波器中的噪声项的值以改善对所述扫描曝光装置的控制。

13.一种扫描曝光装置，包括能够操作以执行根据权利要求1所述的方法的处理器。

14.一种非瞬态计算机程序载体，包括程序指令，所述程序指令能够操作，以当在计算机装置上运行时执行根据权利要求1所述的方法。

15.一种用于控制扫描装置的方法，所述扫描装置被配置用于跨衬底地扫描光子或粒子的射束以在所述衬底上形成功能器件，所述方法包括：

获取用于在扫描操作期间动态控制所述射束的控制轮廓，其中所述射束的特征在于射束轮廓，所述射束轮廓包括所述射束的在至少扫描方向上的空间扩展的信息；以及

通过将去卷积方案应用于所述控制轮廓来优化射束控制的质量，其中所述去卷积方案的结构基于所述射束轮廓。