[实用新型]一种低真空氛围靶材制备系统有效

专利信息
申请号: 201922414210.6 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN213295474U 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 蔺裕平;韩刚库 申请(专利权)人: 梭莱镀膜工业(江阴)有限公司
主分类号: C23C4/134 分类号: C23C4/134;C23C4/137
代理公司: 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 代理人: 王凯
地址: 214437 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型一种低真空氛围靶材制备系统,喷涂密封舱(101)内安装有靶材驱动总成;靶材驱动总成包含有位于喷涂密封舱(101)底面上的滑轨(302),有一滑板(301)滑动行走于滑轨(302)上,所述滑板(301)的右端竖向固定设置有右端板(401),左端板(402)竖向固定设置于移动板(403)上,靶材(1)的两端通过端头夹持件(2)分别架设于右端板(401)和左端板(402)上,安装于滑板(301)上的旋转电机(405)经端头夹持件(2)驱动靶材(1)旋转。本实用新型一种低真空氛围靶材制备系统,其能够在真空环境下进行喷涂,从而保证靶材的喷涂质量。
搜索关键词: 一种 真空 氛围 制备 系统
【主权项】:
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