[实用新型]一种用于PVT法制备单晶的坩埚组件和长晶炉有效
申请号: | 201922370077.9 | 申请日: | 2019-12-24 |
公开(公告)号: | CN211497863U | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | 高超;宁秀秀;李霞;刘家朋;宗艳民 | 申请(专利权)人: | 山东天岳先进材料科技有限公司 |
主分类号: | C30B23/00 | 分类号: | C30B23/00;C30B29/36 |
代理公司: | 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 | 代理人: | 王宽 |
地址: | 250100 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本申请公开了一种用于PVT法制备单晶的坩埚组件和长晶炉,属于半导体材料制备领域。该用于PVT法制备单晶的坩埚组件,其包括坩埚和设置在坩埚内的籽晶柱;所述坩埚的侧壁包括夹层,所述夹层包括内侧壁和外侧壁,所述内侧壁比所述外侧壁的孔隙率高,所述夹层形成原料腔;所述籽晶柱与所述坩埚的中轴线的延伸方向大致相同,所述籽晶柱与所述内侧壁的内表面之间形成长晶腔。该坩埚组件和长晶炉可以高效、快速的制备极低缺陷密度的碳化硅单晶及其衬底,从而为高质量、低成本碳化硅衬底的大规模商用化奠定技术基础。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 pvt 法制 备单晶 坩埚 组件 长晶炉 | ||
【主权项】:
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