[实用新型]一种镀膜均匀的真空镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种镀膜均匀的真空镀膜设备，具体涉及真空镀膜领域，包括真空箱，所述真空箱内部中心处固定设有固定机构，所述固定机构包括固定筒、齿轮组、一号固定杆、二号固定杆和接触块，所述齿轮组活动设于固定筒内部，所述一号固定杆和二号固定杆贯穿于固定筒两侧，所述接触块固定设于固定筒底部，所述一号固定杆和二号固定杆远离固定筒的一端均固定设有固定板，所述固定筒两侧表面均开设有开槽，所述一号固定杆和二号固定杆贯穿于对应开槽内部，所述真空箱内部底端开设有底槽。本实用新型可提供真空蒸发镀膜及真空电镀膜两种加工方式，减少生产成本，便于调整靶件的镀膜方式，使用更加灵活方便。