[实用新型]用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统有效
| 申请号： | 201921649266.3 | 申请日： | 2019-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN210864056U | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 张森;兰涛;毛文哲 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G01T1/29 | 分类号： | G01T1/29;G01T1/34;G01K11/20;G21B1/23 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 汤宝平 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统，包括：探测器和高速可见光相机；其中，所述探测器包括：探测器腔体；小孔，设于所述探测器腔体的第一端部；薄膜，设于所述小孔上；微通道板MCP，被置于所述探测器腔体内，并且面对所述小孔；荧光屏，被置于所述探测器腔体内，并且面对所述微通道板MCP；成像时，软X射线穿透所述小孔，透过所述薄膜，照射在所述微通道板MCP上，软X射线经过所述微通道板MCP后到达所述荧光屏上，所述荧光屏上的可见光射出所述探测器腔体，而后聚焦到所述高速可见光相机上。本实用新型提高了X射线探测成像的速度，并且可获得软X射线的辐射剖面和温度信息。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 约束 聚变 装置 中的 双膜软 射线 荧光 高速 成像 系统 | ||
【主权项】：
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