[实用新型]用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统有效
申请号: | 201921649266.3 | 申请日: | 2019-09-30 |
公开(公告)号: | CN210864056U | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
发明(设计)人: | 张森;兰涛;毛文哲 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | G01T1/29 | 分类号: | G01T1/29;G01T1/34;G01K11/20;G21B1/23 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汤宝平 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 约束 聚变 装置 中的 双膜软 射线 荧光 高速 成像 系统 | ||
本实用新型提供了一种用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统,包括:探测器和高速可见光相机;其中,所述探测器包括:探测器腔体;小孔,设于所述探测器腔体的第一端部;薄膜,设于所述小孔上;微通道板MCP,被置于所述探测器腔体内,并且面对所述小孔;荧光屏,被置于所述探测器腔体内,并且面对所述微通道板MCP;成像时,软X射线穿透所述小孔,透过所述薄膜,照射在所述微通道板MCP上,软X射线经过所述微通道板MCP后到达所述荧光屏上,所述荧光屏上的可见光射出所述探测器腔体,而后聚焦到所述高速可见光相机上。本实用新型提高了X射线探测成像的速度,并且可获得软X射线的辐射剖面和温度信息。
技术领域
本实用新型涉及X射线辐射成像诊断系统,具体涉及一种用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统。
背景技术
工业上X射线成像一般使用X射线相机。X射线相机是由类似CsI的对X射线敏感的闪烁体荧光屏与CCD相机构造而成,X射线首先照射到闪烁荧光屏上,激发出550nm的光子经过聚焦系统成像于相机传感器表面上进而实现X射线成像。这种X射线成像系统的空间分辨率比较高,但是成像速度一般在10帧/秒以内,目前最好的X射线相机速度也在500fps左右,做不到一些特殊领域要求达到的超过10000fps的超高速动态成像。
在托卡马克装置上,为了研究等离子体辐射剖面和温度信息,X射线成像速度要求达到10k fps以上。现有诊断方式采用软X射线阵列在小环截面环绕分布,通过阿贝尔逆变换反演软X射线分布。这种方法需要超过100道信号,对信号数量和质量提出过高要求,在实际使用中,由于托克马克装置等离子体温度、放电磁场和其他诊断的串扰,很难直观得到软X射线辐射剖面。
实用新型内容
鉴于上述技术问题,本实用新型的目的在于提供一种用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统,解决了X射线相机成像速度过慢、成像单一、易受磁场影响的问题,实现了软X射线高速成像,成像速度达到50k fps以上。
为了达到上述目的,本实用新型所采用的技术方案如下:
根据本实用新型的一个方面,提供了一种用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统,包括:探测器和高速可见光相机;其中,探测器包括:
探测器腔体;
小孔,设于探测器腔体的第一端部;
薄膜,设于小孔上;
微通道板MCP,被置于探测器腔体内,并且面对小孔;
荧光屏,被置于探测器腔体内,并且面对微通道板MCP;
成像时,软X射线穿透小孔,透过薄膜,照射在微通道板MCP上,软X射线经过微通道板MCP后到达荧光屏上,荧光屏上的可见光射出探测器腔体,而后聚焦到高速可见光相机上。
在本实用新型的某些实施例中,小孔、微通道板MCP和荧光屏处于同一轴线上。
在本实用新型的某些实施例中,小孔为两个,两个小孔上的薄膜的厚度不同。
在本实用新型的某些实施例中,薄膜为铍膜。
在本实用新型的某些实施例中,两个小孔的间距为1cm,小孔的直径为1mm,两个小孔上的铍膜的厚度分别为25μm和50μm。
在本实用新型的某些实施例中,小孔设置在第一法兰上,第一法兰固定在探测器腔体的第一端部。
在本实用新型的某些实施例中,探测器腔体的侧壁上设有抽气口和电源口;其中,
抽气口设置有第二法兰,用于连接抽气泵;
电源口设置有第三法兰,用于设置真空电极和电源线。
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