[实用新型]一种真空反应室用底部支撑结构有效
| 申请号： | 201921555555.7 | 申请日： | 2019-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN210920658U | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 王浩明;陈永萍;张莉;张广德 | 申请（专利权）人： | 苏州子山半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | F16M11/04 | 分类号： | F16M11/04;F16M11/22 |
| 代理公司： | 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 | 代理人： | 薛芳芳 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空反应室用底部支撑结构，包括支撑台面和固定杆，所述固定杆竖向安装在支撑台面左后角上端外壁上，所述固定杆和支撑台面通过螺母固定连接，通过在该真空反应室用底部支撑结构的支撑台面上增加有一个新型的拉力加固装置，而当真空室罐体的底部固定到支撑台面上的支撑固定圈内部后，此时通过该新型的拉力加固装置能够对安装好的真空室罐体起到固定加持的作用，拉力加固装置通过两个固定环闭合固定在真空室罐体外壁上后，又通过两个橡胶拉力绳的拉力作用对固定好的真空室罐体产生向下的拉力，从而对固定的真空室罐体起到加固作用，防止真空室罐体在使用时产生晃动的情况发生，保证整个真空室能够正常且稳定的工作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 反应 底部 支撑 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州子山半导体科技有限公司，未经苏州子山半导体科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201921555555.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种现场摄像机综合箱体
- 下一篇：摆臂式乳液喷头
