[实用新型]一种真空反应室用底部支撑结构

说明书

本实用新型公开了一种真空反应室用底部支撑结构，包括支撑台面和固定杆，所述固定杆竖向安装在支撑台面左后角上端外壁上，所述固定杆和支撑台面通过螺母固定连接，通过在该真空反应室用底部支撑结构的支撑台面上增加有一个新型的拉力加固装置，而当真空室罐体的底部固定到支撑台面上的支撑固定圈内部后，此时通过该新型的拉力加固装置能够对安装好的真空室罐体起到固定加持的作用，拉力加固装置通过两个固定环闭合固定在真空室罐体外壁上后，又通过两个橡胶拉力绳的拉力作用对固定好的真空室罐体产生向下的拉力，从而对固定的真空室罐体起到加固作用，防止真空室罐体在使用时产生晃动的情况发生，保证整个真空室能够正常且稳定的工作。

技术领域

本实用新型属于支撑架相关技术领域，具体涉及一种真空反应室用底部支撑结构。

背景技术

真空设备是产生、改善和(或)维持真空的装置，包括真空应用设备和真空获得设备，而支架具体指建筑楼房时搭起的暂时性支持，这种支持会随着楼房的建成而被撤掉，但如今支架的应用极其广泛，工作生活中随处可以遇见，如照相机的三脚架，医学领域用到的心脏支架等。

现有的真空反应室用底部支撑结构技术存在以下问题：现有的真空反应室用底部支撑结构在使用时，都是需要把真空反应室罐体的底部插入到支撑台面上的支撑固定圈内部并通过螺母进行固定的，而该方式安装固定的真空室罐体因为固定方式较为单一，所以使得安装好之后的真空室安装牢固性受到限制，从而会容易造成安装好之后的真空室在使用时会产生晃动的情况发生，不利于整个安装好的真空室正常且稳定的工作。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空反应室用底部支撑结构，以解决上述背景技术中提出的通过螺母固定方式安装固定的真空室罐体因为固定方式较为单一，所以使得安装好之后的真空室安装牢固性受到限制，从而会容易造成安装好之后的真空室在使用时会产生晃动的情况发生的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空反应室用底部支撑结构，包括支撑台面和固定杆，所述固定杆竖向安装在支撑台面左后角上端外壁上，所述固定杆和支撑台面通过螺母固定连接，所述固定杆的最上端连接有控制盒安装片，所述支撑台面的底部四角处均设置有竖向的支撑柱，四个所述支撑柱的底部均连接有安放垫，所述支撑台面竖向内部设置有内嵌孔，所述内嵌孔的圆周内部套接有支撑固定圈，所述支撑固定圈的圆周内壁上连接有防滑贴合垫，所述支撑固定圈竖向内部设置有开口向上的固定螺孔，所述内嵌孔左右两侧的支撑台面上端外壁上连接有拉力加固装置，所述拉力加固装置上设置有两个橡胶拉力绳，两个所述橡胶拉力绳的上下两端均设置有固定片，两个所述橡胶拉力绳均通过底部的固定片分别连接在支撑台面横向中心处靠近左右两侧上端外壁上，两个所述橡胶拉力绳通过上端的固定片均连接有连接块，两个所述连接块的对向外壁上分别连接有开口对向的左加固环和右加固环，所述左加固环位于右加固环的平行左侧，所述左加固环和右加固环开口处两端对向内壁上均连接有加固弹簧，所述加固弹簧的两端均通过焊接分别与左加固环和右加固环固定连接。

优选的，所述支撑柱共设置有四个，四个所述支撑柱的顶部均通过焊接与支撑台面固定连接，四个所述支撑柱均与支撑台面的底部保持垂直状态。

优选的，所述安放垫共设置有四个，四个所述安放垫均通过焊接分别连接在四个支撑柱的底部，四个所述安放垫的形状大小和结构组成均相同，四个所述安放垫的底部均保持在同一个横向的水平面上。

优选的，所述左加固环和右加固环的截面形状均为半圆环行，所述左加固环和右加固环的形状大小和结构组成均相同，所述左加固环和右加固环开口对向且相互之间保持相对平行状态。

优选的，所述加固弹簧共设置有四个，四个所述加固弹簧的长短和弹力系数均相同，四个所述加固弹簧分两组各两个分别连接在左加固环和右加固环开口处两端对向内壁上。

优选的，所述橡胶拉力绳共设置有两个，两个所述橡胶拉力绳的弹力系数相同，两个所述橡胶拉力绳处于压缩状态后左加固环和右加固环的底部与支撑台面上端外壁之间的间隙距离为两厘米。