[实用新型]一种高速DFB激光器有效

专利信息
申请号: 201921537626.0 申请日: 2019-09-17
公开(公告)号: CN210468377U 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 单智发;张永;姜伟;陈阳华 申请(专利权)人: 全磊光电股份有限公司
主分类号: H01S5/12 分类号: H01S5/12;H01S5/22;H01S5/34;H01S5/343
代理公司: 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 代理人: 刘计成
地址: 361000 福建省厦门市火炬*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 一种高速DFB激光器,其外延结构包括InP衬底,所述InP衬底上沉积有缓冲层,所述缓冲层的左上方沉积有纵向限制层;所述缓冲层的右上方由下往上依次沉积有光栅层、过度层、有源区下限制层、下波导层、量子阱、上波导层和有源区上限制层;所述纵向限制层与所述有源区上限制层的上端齐平且两者上方沉积一腐蚀阻挡层;所述腐蚀阻挡层的上方依次沉积有联接层、第一势垒渐变层、第二势垒渐变层和欧姆接触层。本实用新型电阻低,调制速率快,高温下晶格匹配好,利于光栅保存,在生长过程中,采用脉冲式气流生长,先生长形核层,然后再生长一定厚度的外延层,有利于提高生长的外延层的质量。
搜索关键词: 一种 高速 dfb 激光器
【主权项】:
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