[实用新型]一种水平式等离子体连续处理系统有效
| 申请号： | 201921308517.1 | 申请日： | 2019-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN210223943U | 公开（公告）日： | 2020-03-31 |
| 发明（设计）人： | 陈培峰;宗泽源;程凡雄;刘庆峰;汤家云 | 申请（专利权）人： | 扬州国兴技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H05K3/26;B08B7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 211400 江苏省扬*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种水平连续式等离子体处理系统，采用调整工艺腔前后的进样室和出样室气压等于或低于工艺腔气压，使得工艺腔在进出基板时不会有气压变动，达到等离子体持续运行的目的；通过在工艺腔设置三段或以上的独立传送滚轮，进口的滚轮用于快速接收进样室传送过来的基板，出口的滚轮用于快速将基板传输到出样室，保证了中段核心的处理区域供料速度稳定不变，做到了对基板的稳定、连续和不间断的处理；水平连续的基板处理方式使基板在工艺腔内连续串列式地通过等离子体区域，每片基板经过的等离子体处理过程基本相同；因而将板与板之间的差异降低到最低；而就单片极板而言，其在传输方向上的区域的等离子体经历也是完全相同的，因此单片板内的均匀性也会好于位置固定的单片基板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 水平 等离子体 连续 处理 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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