[实用新型]一种用于石英晶片生产的浸蚀装置有效
| 申请号: | 201921278460.5 | 申请日: | 2019-08-08 |
| 公开(公告)号: | CN210438640U | 公开(公告)日: | 2020-05-01 |
| 发明(设计)人: | 夏良军 | 申请(专利权)人: | 菲特晶(南京)电子有限公司 |
| 主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
| 代理公司: | 南京常青藤知识产权代理有限公司 32286 | 代理人: | 金迪 |
| 地址: | 210000 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本实用新型提供一种用于石英晶片生产的浸蚀装置,包括浸蚀槽和晶片盛放架,所述浸蚀槽内盛装有浸蚀液,所述浸蚀槽的底部设有电机,所述浸蚀槽内设有搅拌轴,所述搅拌轴与所述电机相连,所述搅拌轴上设有螺旋搅拌叶;所述晶片盛放架包括若干圆形阵列分布的内杆和外杆,所述外杆的顶部设有挂钩,所述挂钩挂在所述浸蚀槽的侧壁上,所述内杆和所述外杆之间固定连接有若干层环形的固定板,所述固定板顶部设有若干均匀分布的卡槽,所述固定板的底部设有与所述卡槽相通的通槽,所述通槽的截面积小于所述卡槽的截面积,所述卡槽内放置晶片。本实用新型的浸蚀槽内浸蚀液的浓度和温度分布均匀,且晶片不易碰触,浸蚀处理效果较好。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 用于 石英 晶片 生产 浸蚀 装置 | ||
【主权项】:
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