[实用新型]基于光谱共焦的压电陶瓷d15参数测量装置有效

专利信息
申请号: 201921051994.4 申请日: 2019-07-05
公开(公告)号: CN209727045U 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 杨晓峰;郝凌凌;陈庆生;康华洲;王振华 申请(专利权)人: 季华实验室
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02;G01J3/28
代理公司: 31342 上海上谷知识产权代理有限公司 代理人: 蔡继清;姜龙<国际申请>=<国际公布>=
地址: 528200 广东省佛山市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种基于光谱共焦的压电陶瓷d15参数测量装置,包括光源、分光镜、色散透镜组、横向位移台、纵向位移台以及光谱信号处理模块。待测试的压电陶瓷叠堆设置于横向位移台和纵向位移台之间,从光源发出的光经过分光镜后到达色散透镜组,经色散透镜组入射到横向位移台,经过横向位移台反射回色散透镜组,经过分光镜透射返回光谱信号处理模块。本实用新型技术方案采用光学测试可以直接测量其逆压电效应,同时可以达到纳米级的测量精度,同时不需要对被测件进行任何处理。
搜索关键词: 横向位移 色散透镜 分光镜 光谱 信号处理模块 本实用新型 纵向位移 光源 参数测量装置 压电陶瓷叠堆 逆压电效应 光学测试 压电陶瓷 直接测量 被测件 纳米级 透射 共焦 组入 反射 测量 测试 返回
【主权项】:
1.一种基于光谱共焦的压电陶瓷d15参数测量装置,其特征在于,所述测量装置包括光源、分光镜、色散透镜组、横向位移台、纵向位移台以及光谱信号处理模块,待测试的压电陶瓷叠堆设置于所述横向位移台和所述纵向位移台之间,从光源发出的光经过所述分光镜后到达所述色散透镜组,经所述色散透镜组入射到所述横向位移台,经过所述横向位移台反射回所述色散透镜组,经过分光镜透射返回光谱信号处理模块。/n
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