[实用新型]IC装备用薄镍片喷铝真空治具有效
| 申请号： | 201921002972.9 | 申请日： | 2019-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN210596228U | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | 褚依辉 | 申请（专利权）人： | 沈阳富创精密设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C4/00 | 分类号： | C23C4/00 |
| 代理公司： | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 俞鲁江 |
| 地址： | 110168 辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开一种IC装备用薄镍片喷铝真空治具，其特征在于：包括基础座和真空基体；基础座为方形凹槽，侧面设有与真空泵相连接的接口，接口处设有密封圈；真空基体呈梯台形状，底面设有密封槽,密封槽内设有保压圈；梯台最窄宽度与零件宽度一致。该治具保证薄镍片在高速喷涂制程中保持与治具的吸附不掉落，让喷铝涂层的均匀性，还能保证全部覆盖。 | ||
| 搜索关键词： | ic 装备 用薄镍片喷铝 真空 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
