[实用新型]一种用于磁瓦表面全检的光学装置有效
| 申请号： | 201920845916.5 | 申请日： | 2019-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN210071694U | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 朱培源 | 申请（专利权）人： | 深圳至汉装备科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/88 |
| 代理公司： | 11491 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 赵红霞 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区西丽街道*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于磁瓦表面全检的光学装置，包括从上至下依次连接的直射光罩，弧形光罩和平行光罩，所述弧形光罩的顶部和底部分别为开口，所述直射光罩通过反射镜将内部光垂直由所述弧形光罩的顶部开口射入所述弧形光罩内，所述弧形光罩的底部内侧安装有沿圆周布置的圆周光源，所述平行光罩设置有两个且相对地固定在所述弧形光罩的底部两侧，两个所述平行光罩的出光面分别朝向对方。本实用新型能够对不同摆放状态下的待检测磁瓦的内弧面、外弧面及四个侧面进行无死角的照明，一旦有缺陷则能够很好地凸显出来，提高检测装置获取待检测磁瓦表面图像的精度，从而得到更精确的缺陷分析结果，减少误差率。 | ||
| 搜索关键词： | 光罩 本实用新型 平行光 直射光 误差率 磁瓦表面图像 缺陷分析结果 摆放状态 磁瓦表面 从上至下 顶部开口 光学装置 检测装置 依次连接 圆周布置 出光面 反射镜 内弧面 外弧面 无死角 检测 磁瓦 全检 射入 光源 垂直 开口 侧面 | ||
【主权项】：
1.一种用于磁瓦表面全检的光学装置，其特征在于，包括从上至下依次连接的直射光罩，弧形光罩和平行光罩，所述弧形光罩的顶部和底部分别为开口，所述直射光罩通过反射镜将内部光垂直由所述弧形光罩的顶部开口射入所述弧形光罩内，所述弧形光罩的底部内侧安装有沿圆周布置的圆周光源，所述平行光罩设置有两个且相对地固定在所述弧形光罩的底部两侧，两个所述平行光罩的出光面分别朝向对方。/n
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