[实用新型]一种用于磁瓦表面全检的光学装置有效
| 申请号： | 201920845916.5 | 申请日： | 2019-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN210071694U | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 朱培源 | 申请（专利权）人： | 深圳至汉装备科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/88 |
| 代理公司： | 11491 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 赵红霞 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区西丽街道*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光罩 本实用新型 平行光 直射光 误差率 磁瓦表面图像 缺陷分析结果 摆放状态 磁瓦表面 从上至下 顶部开口 光学装置 检测装置 依次连接 圆周布置 出光面 反射镜 内弧面 外弧面 无死角 检测 磁瓦 全检 射入 光源 垂直 开口 侧面 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于磁瓦表面全检的光学装置，其特征在于，包括从上至下依次连接的直射光罩，弧形光罩和平行光罩，所述弧形光罩的顶部和底部分别为开口，所述直射光罩通过反射镜将内部光垂直由所述弧形光罩的顶部开口射入所述弧形光罩内，所述弧形光罩的底部内侧安装有沿圆周布置的圆周光源，所述平行光罩设置有两个且相对地固定在所述弧形光罩的底部两侧，两个所述平行光罩的出光面分别朝向对方。
2.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，
所述直射光罩包括矩形的壳体，所述壳体的相对两端分别开有拍摄孔和出光孔，光源为侧方光源且安装在所述拍摄孔和所述出光孔之间的侧壁处，所述反射镜的一端位于所述出光孔远离侧方光源的一侧，相对的另一端向所述侧方光源方向倾斜且越过所述拍摄孔。
3.根据权利要求2所述的光学装置，其特征在于，
在所述侧方光源与所述反射镜之间设置有垂直于所述侧方光源光轴并具备聚光效果的光学透镜。
4.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，
在所述直射光罩的两侧还设置有U形光罩，所述U形光罩的出光面为弧形或直角形，并与待检测磁瓦的直角边对应。
5.根据权利要求4所述的光学装置，其特征在于，
所述平行光罩的内部隔为上下两层，每层分别安装由LED灯条构成的光源。
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