[实用新型]一种用于版画制作的绘图架有效
| 申请号： | 201920686837.4 | 申请日： | 2019-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN210970490U | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 何俊婷 | 申请（专利权）人： | 何俊婷 |
| 主分类号： | B44B11/02 | 分类号： | B44B11/02;B44C5/04 |
| 代理公司： | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 高志军 |
| 地址： | 517000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于版画制作的绘图架，包括底座，所述底座的上端依次设有第一伸缩杆、第二伸缩杆与直杆，所述第一伸缩杆的上端设有除尘机构，所述第二伸缩杆的上端设有第二转轴，所述第二转轴上转动连接有放置架，所述放置架上设有卡槽，所述卡槽内设有刻板，所述放置架的两侧均设有弹簧铁片，两个所述弹簧铁片均通过第三弹簧与放置架的侧壁固定连接，所述放置架上设有限位机构，所述直杆的上端设有放置机构。本实用新型结构设计合理，具有方便刻画以及方便清理刻板上由于刻画产生的木屑，还有方便根据操作人员自身条件调整高度的好处。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 版画 制作 绘图 | ||
【主权项】：
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