[实用新型]光罩清洗辅助治具有效
申请号: | 201920574141.2 | 申请日: | 2019-04-23 |
公开(公告)号: | CN209486465U | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 杜武兵;林伟;刘来孟 | 申请(专利权)人: | 深圳市路维光电股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 深圳市翼智博知识产权事务所(普通合伙) 44320 | 代理人: | 黄莉 |
地址: | 518057 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型实施例提供一种光罩清洗辅助治具,包括承载板,承载板上开设有用于容置待清洗光罩的容纳槽,容纳槽内侧壁上设有至少两个定位结构,每个定位结构包括四个分别设于容纳槽的四角落处的定位台阶,每个定位台阶包括承载面和两个相互垂直且均垂直于所述承载面以抵靠定位待清洗光罩的对应侧边的定位面,每个定位结构的各个定位台阶的承载面位于同一平面内,且每个定位结构的四个定位台阶的承载面和定位面共同限定一个与一种尺寸规格的待清洗光罩适配的区域,不同定位结构限定的容纳区域对应容置不同尺寸规格的待清洗光罩。本实用新型实施例设多个定位结构,可容置不同尺寸规格的待清洗光罩,适用性强。本光罩清洗辅助治具可应用于光罩清洗机。 | ||
搜索关键词: | 光罩 定位结构 定位台阶 承载面 清洗 清洗辅助 容纳槽 容置 治具 本实用新型 承载板 定位面 垂直 容纳区域 角落处 内侧壁 清洗机 侧边 适配 应用 | ||
【主权项】:
1.一种光罩清洗辅助治具,其特征在于,包括承载板,所述承载板上开设有用于容置待清洗光罩的容纳槽,所述容纳槽内侧壁上设置有至少两个定位结构,每个定位结构包括四个分别设置于容纳槽的四角落处的定位台阶,每个所述定位台阶包括承载面和两个相互垂直且均垂直于所述承载面以抵靠定位待清洗光罩的对应侧边的定位面,每个定位结构的各个定位台阶的承载面位于同一平面内,且每个定位结构的四个定位台阶的承载面和定位面共同限定一个与一种尺寸规格的待清洗光罩相适配的容纳区域,不同定位结构限定的容纳区域对应容置不同尺寸规格的待清洗光罩。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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