[实用新型]一种半导体气相沉淀装置中部件洗净熔射保护治具有效
| 申请号： | 201920540838.8 | 申请日： | 2019-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN209778988U | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 朱光宇;陈智慧;张正伟;李泓波;贺贤汉 | 申请（专利权）人： | 富乐德科技发展(大连)有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 21235 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) | 代理人： | 盖小静 |
| 地址： | 116600 辽宁省大连市保税区*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种半导体气相沉淀装置中部件洗净熔射保护治具，包括内圈盖板和承载座；所述内圈盖板顶部设有提拉把手，内圈盖板的外边缘为倾斜边，在倾斜边上均匀分布有三个凹弧面，内圈盖板底部设有内定位台和一圈外定位台，所述外定位台与内定位台之间为凹槽结构，在凹槽结构两侧设有插台，在内定位台中部设有一定位槽；所述承载座包括座体，在座体内设有一圈承载内台，在承载内台上设有与三个凹弧面相对应的凹弧槽体，所述承载内台与座体的侧壁形成一承载槽，在承载内台内部凹设有圆形限位凹槽，所述圆形限位凹槽的两侧设有插槽；所述内圈盖板盖在承载内台上。本申请治具具有使用方便、精度高、可重复使用、节省人力及物料成本等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 定位台 内圈 盖板 承载 内台 凹槽结构 限位凹槽 承载座 治具 座体 本实用新型 凹弧面相 沉淀装置 物料成本 凹弧槽 凹弧面 承载槽 盖板盖 可重复 倾斜边 外边缘 中部件 侧壁 插槽 插台 熔射 提拉 位槽 洗净 半导体 把手 体内 申请 | ||
【主权项】：
1.一种半导体气相沉淀装置中部件洗净熔射保护治具，其特征在于，包括内圈盖板和承载座；所述内圈盖板顶部设有提拉把手，内圈盖板的外边缘为倾斜边，在倾斜边上均匀分布有三个凹弧面，内圈盖板底部设有内定位台和一圈外定位台，所述外定位台与内定位台之间为凹槽结构，在凹槽结构两侧设有插台，在内定位台中部设有一定位槽；所述承载座包括座体，在座体内设有一圈承载内台，在承载内台上设有与三个凹弧面相对应的凹弧槽体，所述承载内台与座体的侧壁形成一承载槽，在承载内台内部凹设有圆形限位凹槽，所述圆形限位凹槽的两侧设有插槽；所述内圈盖板盖在承载内台上。/n
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