[实用新型]沉积镀膜设备

摘要

本实用新型提供一种沉积镀膜设备，其包括：真空室、设置于真空室顶部的多个沉积气体进口、适于圆形基片固定的旋转夹持机构；旋转夹持机构包括：基板、通过转轴安装于基板上的主动轮以及多个从动轮、安装于主动轮和多个从动轮围成的区域的中心位置处的旋转支撑轴，主动轮及多个从动轮按照一圆形轨迹进行排布，圆形轨迹的直径与圆形基片的直径相适应，主动轮及多个从动轮位于同一水平面内，旋转支撑轴的上端设置有吸盘，旋转支撑轴连同其上端的吸盘的高度之和小于主动轮及多个从动轮所在的水平面高度。本实用新型通过真空室中的旋转夹持机构能够实现基片的固定，并且能够带动基片进行轴向的旋转，有利于在基片上形成厚度均匀的薄膜。

主权项

1.一种沉积镀膜设备，其包括：真空室、设置于所述真空室顶部的多个沉积气体进口，其特征在于，所述真空室中还设置有适于圆形基片固定的旋转夹持机构；/n所述旋转夹持机构包括：基板、通过转轴安装于所述基板上的主动轮以及多个从动轮、安装于所述主动轮和多个从动轮围成的区域的中心位置处的旋转支撑轴，所述主动轮及多个从动轮按照一圆形轨迹进行排布，所述圆形轨迹的直径与所述圆形基片的直径相适应，所述主动轮和多个从动轮的周向侧面形成与所述圆形基片的边缘相接触的工作面，所述工作面为凹陷设置的弧形面，所述主动轮及多个从动轮位于同一水平面内，所述旋转支撑轴的上端设置有吸盘，所述旋转支撑轴连同其上端的吸盘的高度之和小于所述主动轮及多个从动轮所在的水平面高度。/n