[发明专利]一种提高纳米金属多层膜韧性的方法有效

专利信息
申请号: 201911402987.9 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN111020513B 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 于首明;张国君;李婷婷;胡亚娟;王文松;王涛;牛雨萱;魏新宇 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16;B82Y40/00
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 罗笛
地址: 710048 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种提高纳米金属多层膜韧性的方法,采用磁控溅射技术沉积一种组元材料A的第一层A1,接着沉积第二种组元材料B的第一层B1;然后再沉积组元材料A的第二层A2,A2的厚度不同于A1,接着沉积组元材料B的第二层B2,B2的厚度不同于B1;……;沉积组元材料A的第n层An,An的厚度不同于An‑1,沉积组元材料B的第n层Bn,Bn的厚度不同于Bn‑1,如此交替沉积两种组元材料A和B并同时改变沉积的单层厚度,形成单层厚度在薄膜生长方向上梯度变化的金属多层膜。本发明利用磁控溅射技术在薄膜生长方向上调控单层厚度梯度变化,可大幅提高纳米金属多层膜的韧性。
搜索关键词: 一种 提高 纳米 金属 多层 韧性 方法
【主权项】:
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