[发明专利]一种用于镀制光学薄膜的ZrOx有效

专利信息
申请号: 201911396525.0 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN112028120B 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 张碧田;彭程;石志霞;孙静;段华英;张恒 申请(专利权)人: 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
主分类号: C01G25/02 分类号: C01G25/02;C03C17/245
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 张晶
地址: 101407 北京市怀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种用于镀制光学薄膜的ZrOx及其制备方法。其主要包括以下步骤:采用ZrO2和ZrH2粉体为原料,按一定的配比混合均匀后进行压块或造粒,然后在高温真空下进行固相合成,并在真空状态下冷却至室温,生成新的化合物ZrOx。该化合物熔点低于二氧化锆,材料在蒸发过程中保持稳定的化学组成,有利于镀膜过程的工艺控制。该材料镀制的光学膜层稳定性和一致性好,在近紫外到近红外波段均有较高的透过率,膜层致密、牢固,化学性质稳定,可作为优质的高折射率材料应用于光学膜系设计和批量的镀膜生产中。
搜索关键词: 一种 用于 光学薄膜 zro base sub
【主权项】:
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