[发明专利]一种偏振敏感且抗紫外线擦除的银纳米结构制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 201911394929.6 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN111069624B 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 刘益春;李鑫;付申成;张昕彤 申请(专利权)人: 东北师范大学
主分类号: B22F9/24 分类号: B22F9/24;C01G23/047;B82Y10/00;B82Y40/00
代理公司: 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 代理人: 宁晓丹
地址: 130024 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 一种偏振敏感且抗紫外线擦除的银纳米结构制备方法及应用涉及全息存储技术领域,解决了需求光偏振敏感且抗紫外线擦除的银/二氧化钛薄膜的问题,包括制备二氧化钛前驱体溶胶;采用提拉浸渍法在玻璃衬底上制备二氧化钛薄膜,顺次进行陈化和热退火处理,得到有序介孔二氧化钛薄膜;配置硝酸银溶液,将有序介孔二氧化钛薄膜浸入硝酸银溶液并紫外光辐照,银纳米粒子在有序介孔二氧化钛薄膜上沉积形成银立方,偏振敏感且抗紫外线擦除的银纳米结构制备完成。本发明该方法避免了复杂的化学合成路线,获得偏振敏感且抗紫外线擦除的银纳米结构;采用该方法制备的银纳米结构对光偏振的响应灵敏、在不引入其他体系的前提下具有抗紫外擦除的特性。
搜索关键词: 一种 偏振 敏感 紫外线 擦除 纳米 结构 制备 方法 应用
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