[发明专利]一种晶界扩散制备高性能大块钕铁硼磁体的方法在审

专利信息
申请号: 201911391045.5 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN110993311A 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: 王春国;吕向科;张民;王显伟;郑大伟;武秉晖;毛应才;竺晓东 申请(专利权)人: 宁波韵升股份有限公司;宁波韵升磁体元件技术有限公司
主分类号: H01F41/02 分类号: H01F41/02;H01F1/057
代理公司: 宁波奥圣专利代理事务所(普通合伙) 33226 代理人: 方小惠
地址: 315040 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种晶界扩散制备高性能大块钕铁硼磁体的方法,在每片薄片钕铁硼磁体的一个包覆表面分别包覆RxMy合金膜层,另一个包覆表面均包覆GaFb合金膜层,将多片包覆RxMy合金膜层和GaFb合金膜层后的薄片钕铁硼磁体按厚度方向无间隔贴合排列得到层叠型坯,接着在真空环境或惰性气体保护环境下,对层叠型坯进行热处理得到高性能大块钕铁硼磁体,在热处理过程中,各薄片钕铁硼磁体与包覆在其上的RxMy合金膜层和GaFb合金膜层之间发生元素互扩散,形成过渡层;优点是突破了晶界扩散技术在钕铁硼磁体尺寸上的限制,实现了高性能大块钕铁硼磁体的制备,显著提升大块钕铁硼磁体矫顽力的同时,减少对剩磁的影响。
搜索关键词: 一种 扩散 制备 性能 大块 钕铁硼 磁体 方法
【主权项】:
暂无信息
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