[发明专利]具有风化检测像素的成像系统在审
| 申请号： | 201911370855.2 | 申请日： | 2019-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN111614917A | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | R·S·约翰森 | 申请（专利权）人： | 半导体元件工业有限责任公司 |
| 主分类号： | H04N5/369 | 分类号： | H04N5/369;H04N5/341;H04N17/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 张丹 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明题为“具有风化检测像素的成像系统”。本发明提供了一种成像设备，该成像设备可具有图像传感器像素阵列。该图像传感器像素阵列可具有与光学叠堆重叠的主要像素和参考像素。该参考像素可比该主要像素更耐受风化诸如太阳光退化。例如，与主要像素重叠的光学叠堆可包括防反射涂层，而与参考像素重叠的光学叠堆可不包括防反射涂层。另选地或附加地，与主要像素重叠的光学叠堆可包括由第一颜料形成的滤色器抗蚀剂，并且与参考像素重叠的光学叠堆可包括由比第一颜料更耐受风化的第二颜料形成的滤色器抗蚀剂。处理电路可比较主要像素和参考像素的输出以确定阵列中的像素是否已损坏。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 风化 检测 像素 成像 系统 | ||
【主权项】：
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