[发明专利]光阻涂布的方法在审
| 申请号： | 201911370726.3 | 申请日： | 2019-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN113050377A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 张晨阳;邢栗;王延明;朴勇男;王绍勇;关丽;孙洪君;张德强 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人： | 黄海霞 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种光阻涂布的方法，包括将晶圆真空吸附在承片台上；所述承片台先以速度为20‑200r/s的第一速度旋转然后以速度为1000‑3000r/s的第二速度旋转，同时胶嘴对所述晶圆中心进行打胶；停止所述打胶，然后所述承片台以第三速度旋转，以对所述晶圆进行打胶回流，所述第三速度大于0，且小于所述第二速度；所述承片台以第四速度旋转，使光阻在所述晶圆表面成膜，以完成所述光阻涂布，所述第四速度大于所述第一速度和所述第三速度。所述承片台先以速度为20‑200r/s的第一速度旋转然后以速度为1000‑3000r/s的第二速度旋转，同时胶嘴对所述晶圆中心进行打胶，所述承片台采用先低速后高速的变速方式旋转，可以使光阻均匀的附着在晶圆的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 光阻涂布 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳芯源微电子设备股份有限公司，未经沈阳芯源微电子设备股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911370726.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
