[发明专利]一种核辐射屏蔽结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201911330672.8 申请日: 2019-12-20
公开(公告)号: CN111009332A 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 杨中甲;郑小芳;谭雪林;郭国万;江雷 申请(专利权)人: 北航(四川)西部国际创新港科技有限公司
主分类号: G21F1/12 分类号: G21F1/12;G21F1/10;C08L61/14;C08L61/06;C08L83/14;C08L79/08;C08K13/06;C08K9/04;C08K7/10;C08K7/06;C08K7/14;C08K3/38;C08K3/08;C08K3/22
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 张洋
地址: 610000 四川省成都市天*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种核辐射屏蔽结构及其制造方法,涉及防核辐射技术领域。该核辐射屏蔽结构包括依次交替层叠设置的多层中子屏蔽层和多层伽马射线屏蔽层。其中的中子屏蔽层利用聚合物树脂基体剂、增强材料剂、中子慢化剂、热中子吸收剂以及偶联剂通过合理配比制得,伽马射线屏蔽层利用聚合物树脂基体剂、增强材料剂以及伽马射线屏蔽剂通过合理配比制得。其具有体积小,质量轻,便于移动和运输,并且耐高温,能够适用于各种极端环境,内部缺陷少,辐射屏蔽效果好,便于加工和维护的优点。
搜索关键词: 一种 核辐射 屏蔽 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
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