[发明专利]实现大幅面多路激光并行刻划的方法和装置在审
| 申请号： | 201911323581.1 | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN110883436A | 公开（公告）日： | 2020-03-17 |
| 发明（设计）人： | 王雪辉;雷桂明;许维 | 申请（专利权）人： | 武汉华工激光工程有限责任公司 |
| 主分类号： | B23K26/364 | 分类号： | B23K26/364;B23K26/067 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 杨鹏 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供了一种实现大幅面多路激光并行刻划的方法和装置，涉及激光刻线领域。该实现大幅面多路激光并行刻划的装置包括激光发射模块、激光衍射模块和激光聚焦模块，激光发射模块、激光衍射模块和激光聚焦模块依次设置，激光衍射模块用于将激光分成至少两束子光束，激光聚焦模块用于对至少两束子光束聚焦，聚焦后的子光束用于对基板刻线。上述的实现大幅面多路激光并行刻划的方法和装置能够实现多路激光并行加工，有利于提高激光划刻平行凹槽的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 实现 大幅面 激光 并行 刻划 方法 装置 | ||
【主权项】：
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