[发明专利]一种薄膜应力的消除方法在审
| 申请号： | 201911284799.0 | 申请日： | 2019-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN112981353A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 李刚;吕起鹏;邓淞文;吕少波;金玉奇 | 申请（专利权）人： | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;C23C14/58;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/06;C23C14/54 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 郑伟健 |
| 地址： | 116023 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种薄膜应力的消除方法，采用双离子束溅射镀膜技术，在光学基片上完成薄膜镀制之后，经过一系列的退火热处理，结合镀膜材料的热力学特性，控制退火热处理参数，如退火温度、退火时间、退火次数、升温/降温速率等工艺条件实现应力控制。根据所得到的实验现象，结合理论指导，建立了一套完整的薄膜应力消除工艺流程及理论体系。使用本方法可以在确保良好的薄膜光学特性的前提下对薄膜应力进行宏观调控。本发明可以为光学元件保形技术提供理论指导，可以为复杂光学薄膜、强光光学元件等的生产提供样品。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 应力 消除 方法 | ||
【主权项】：
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