[发明专利]导电性薄膜的制造方法有效
申请号: | 201911275576.8 | 申请日: | 2019-12-12 |
公开(公告)号: | CN111326291B | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
发明(设计)人: | 别府浩史;小石直树;鹰尾宽行 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B5/14 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供在形成较厚的导电层时也可抑制树脂薄膜的褶皱的产生的导电性薄膜的制造方法。一种导电性薄膜的制造方法,其包括:工序A,在树脂薄膜的一个面形成第1导电层;工序B,在前述第1导电层上贴合保护薄膜;及工序C,边放出前述树脂薄膜边通过溅射法在前述树脂薄膜的另一面形成厚度80nm以上且300nm以下的第2导电层。 | ||
搜索关键词: | 导电性 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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