[发明专利]基于SiO2在审

专利信息
申请号: 201911258378.0 申请日: 2019-12-10
公开(公告)号: CN111063739A 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 赵胜雷;宋秀峰;张进成;刘爽;吴银河;边照科;张苇杭;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06;H01L29/20;H01L21/336
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于SiO2电流阻挡层的氮化铝CAVET器件,主要解决现有技术击穿电压较低,可靠性较差的问题。其包括衬底(1)、漂移层(2)、电流阻挡层(3)、n+层(4)、源极(5)、漏极(6)、栅极(7)和钝化层(8)。其中,漂移层位于衬底的上部,电流阻挡层对称分布于漂移层上部的左右两侧,n+层位于电流阻挡层和漂移层的上部,源极位于n+层上部的左右两侧,栅极位于源极的中间,漏极位于衬底的下部,钝化层位于源极和栅极之间。本发明由于衬底、漂移层和n+层采用AlN材料,电流阻挡层采用SiO2,减小了高压偏置下的泄漏电流,提高了器件的击穿电压和可靠性,可作为高压电源系统中的电力电子器件。
搜索关键词: 基于 sio base sub
【主权项】:
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