[发明专利]基于双谱段叠层干涉的高光谱成像装置在审

专利信息
申请号: 201911150506.X 申请日: 2019-11-21
公开(公告)号: CN111307761A 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 柏财勋;范文慧;畅晨光;李立波;胡炳樑;冯玉涛 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G01N21/45 分类号: G01N21/45;G01J3/45
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 王少文
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种光谱成像装置,特别涉及一种基于双谱段叠层干涉的高光谱成像装置,解决了现有基于静态干涉分光原理的高光谱成像装置在宽波段探测时,不同谱段间会引入明显波长分辨率差异的问题。该装置特殊之处在于:包括沿光路依次设置的前置成像物镜、光阑、准直物镜、双谱段叠层干涉模块、液晶偏振开关、后置成像物镜及面阵探测器;双谱段叠层干涉模块包括偏振分光棱镜BS、设在偏振分光棱镜BS反射光路的短波剪切器及设在偏振分光棱镜BS透射光路的长波剪切器;液晶偏振开关包括沿光路依次设置的铁电液晶FLC和线偏振器P。在光谱通道数量不变的情况下,本发明不但可以提升长波光谱精细程度,而且可以提升短波信噪比,进而提高光谱复原精度。
搜索关键词: 基于 双谱段叠层 干涉 光谱 成像 装置
【主权项】:
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