[发明专利]一种基于双基准约束的精加工配准方法

摘要

本发明公开了一种基于双基准约束的精加工配准方法，包括以下步骤：S1：根据平面和圆柱面分别得到平面理论基准和圆柱面理论基准；S2：对零件的待加工面、平面和圆柱面分别进行检测，分别得到待加工面检测点、平面检测点和圆柱面检测点；S3：通过平面拟合基准/圆柱面拟合基准向平面理论基准/圆柱面理论基准运动，得到第一平移矢量T1和第一旋转矩阵R1，再根据第一平移矢量T1和第一旋转矩阵R1将待加工面检测点进行变换；S4：根据平面理论基准和圆柱面理论基准建立局部坐标系，然后在局部坐标系下建立带有两个基准面约束的配准模型；S5：输出最终计算结果。本发明应用于机械加工领域。