[发明专利]一种短波宽带截止中波透过膜设计及制备方法在审
申请号: | 201911128282.2 | 申请日: | 2019-11-18 |
公开(公告)号: | CN110927963A | 公开(公告)日: | 2020-03-27 |
发明(设计)人: | 郭猛;贺洪波;易葵;邵淑英;胡国行;李静平;朱美萍 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B1/10;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/18;C23C14/30 |
代理公司: | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 张宁展 |
地址: | 201800 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种短波宽带截止中波透过膜设计及制备方法,包括步骤:膜系设计,基片清洗,基片加热,膜系镀制。基片材料为折射率为1~5的红外窗口玻璃,高折射率镀膜材料的折射率为3~5,中等折射率镀膜材料的折射率为1.5~3,低折射率镀膜材料的折射率为1~1.5,采用双面镀膜方式可实现300~900nm短波宽带截止3700nm~4800nm中红外波段高透过率。 | ||
搜索关键词: | 一种 短波 宽带 截止 中波 透过 设计 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911128282.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种防脱线束连接头
- 下一篇:一种步态监测的方法及智能设备