[发明专利]大尺寸单层二维MOF纳米片的制备及其应用在审

专利信息
申请号: 201911105943.X 申请日: 2019-11-13
公开(公告)号: CN111718492A 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 陈殷;杨鹏飞;王稼辉;颜怡 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: C08G83/00 分类号: C08G83/00;B82Y40/00;B01D67/00;B01D61/00;B01J31/22;C07D239/22;C09K11/65;B82Y20/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410083 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一类新型的二维MOF材料及相应单层纳米片的制备方法,是迄今为止第一种可以进行批量化制备及应用的单层二维材料。这类二维MOF材料由具有三维立体结构的砌块单元构建,层间作用力非常弱,层内机械强度高,通过简单的机械剥离即可规模化制备相应单层纳米片材料。获得的单层纳米片具有高质量、大尺寸、稳定性好的特点,同时制备简单、原料低廉、耗时短。此类单层纳米片比表面积大、传质阻碍小、高活性位点充分暴露、性能优异等特点,有好的量子限域效应,研究表明此类纳米片材料在催化、传感、信息、量子点阵、分离、气体分离吸附、离子筛分、液体分子筛分等性能优异,有着重要的应用前景。
搜索关键词: 尺寸 单层 二维 mof 纳米 制备 及其 应用
【主权项】:
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