[发明专利]一种基于交叉相位的大拓扑荷数涡旋光制备与检测方法在审
申请号: | 201911096134.7 | 申请日: | 2019-11-11 |
公开(公告)号: | CN110954213A | 公开(公告)日: | 2020-04-03 |
发明(设计)人: | 任元;王琛;刘通;丁友;邱松;李智猛;吴昊;杨洋 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军战略支援部队航天工程大学 |
主分类号: | G01J1/08 | 分类号: | G01J1/08;G01J1/00 |
代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 郑久兴 |
地址: | 101416*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于交叉相位的大拓扑荷数涡旋光制备与检测方法。涡旋光是一种具有螺旋波阵面的特殊光场,交叉相位是一种特殊的光场相位结构。首先,利用多参量联合调控技术制备携带厄米特高斯光信息与交叉相位的全息图样并加载到空间光调制器,一束线偏振高斯光照射到空间光调制器,出射光传播一段距离后转化为拉盖尔高斯光,即实现大拓扑荷数涡旋光的制备;同理,当全息图样携带拉盖尔高斯光信息与交叉相位时,出射光传播一段距离后转化为厄米特高斯光,计算其模数即可检测涡旋光的拓扑荷数和径向节数。本方法光路简洁,灵活性强,属于涡旋光制备领域,可应用于大拓扑荷数涡旋光的制备与检测。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 交叉 相位 拓扑 涡旋 制备 检测 方法 | ||
【主权项】:
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