[发明专利]用于光刻工艺的基板及导电膜在审
| 申请号： | 201911089287.9 | 申请日： | 2019-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN112776440A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 谢峰;胡昆星;万国伟 | 申请（专利权）人： | 南昌欧菲显示科技有限公司 |
| 主分类号： | B32B27/06 | 分类号： | B32B27/06;B32B27/36;B32B27/34;B32B27/32;B32B27/28;B32B27/30;B32B9/00;B32B9/04;B32B7/023;B32B33/00;H01B5/14 |
| 代理公司： | 北京恒博知识产权代理有限公司 11528 | 代理人： | 范胜祥 |
| 地址： | 330013 江西省南昌*** | 国省代码： | 江西;36 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供了一种用于光刻工艺的基板及导电膜，基板包括：光截止层、第一基材层以及第二基材层。第一基材层设置在光截止层的第一面上。第二基材层设置在光截止层上与第一面相对的第二面上。本申请提供的基板用于制作触控传感器的后续黄光工艺时，正反两面的光线不能够穿透光截止层，避免两侧光线的相互干扰从而制作正确的图案，因此可以降低现有技术采用其他遮光方式而导致的工艺复杂性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 工艺 导电 | ||
【主权项】：
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