[发明专利]一种对位标记结构、曝光装置和曝光方法在审
| 申请号： | 201911066526.9 | 申请日： | 2019-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN110908255A | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | 王士敏;李金军;古海裕;朱泽力 | 申请（专利权）人： | 深圳莱宝高科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F1/42 |
| 代理公司： | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人： | 王善娜 |
| 地址： | 518000 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明适用于膜层图案化制造技术领域，提供了一种对位标记结构、曝光装置和曝光方法，该对位标记结构呈镂空形式设置，其镂空位置处允许光线透过，因而，能够降低对光线的反射率，当该对位标记结构与其他结构共同位于图像传感器的捕捉视野内时，其可以与其他结构之间形成色差而被图像传感器准确捕捉；应用该对位标记结构的曝光装置，其能够准确识别到光刻掩模板上的对位标记结构，提高对位准确性；基于该对位标记结构的曝光方法，能够准确识别到基板上的对位标记结构，因而能够保证基板对齐至所需要的位置处，提高对位准确性，保证曝光区域的准确性，进而保证待曝光的膜层的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对位 标记 结构 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
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